Passer au contenu principal

Votre navigateur n’est malheureusement pas entièrement pris en charge. Si vous avez la possibilité de le faire, veuillez passer à une version plus récente ou utiliser Mozilla Firefox, Microsoft Edge, Google Chrome, ou Safari 14 ou plus récent. Si vous n’y parvenez pas et que vous avez besoin d’aide, veuillez nous faire part de vos commentaires.

Nous vous serions reconnaissants de nous faire part de vos commentaires sur cette nouvelle expérience.Faites-nous part de votre opinion

Elsevier
Publier avec nous

Profil

Chengming Li

Chengming Li

University of Science and Technology Beijing, China

Li is a Professor at the Institute for Advanced Materials and Technology, University of Science and Technology Beijing, where he directs the Carbon-Based Materials and Functional Films Laboratory. He received his BSc, MSc and PhD degrees from USTB, China. His research interests span plasma CVD diamond, defect and interface engineering, and scalable superhard diamond wafers and coatings. He developed dual-magnetic-field-controlled DC plasma-jet CVD for high-rate growth of 8-inch freestanding diamond plates. More recently, building on this platform, his team produced inch-scale ultrahard diamond wafers and coatings with hardness above 200 GPa, enabling robust superhard coatings for demanding precision manufacturing.